Plasma Module

Nova aplicação: GEC CCP

O reator NIST GEC CCP proporciona uma plataforma para estudo de plasmas acoplados de forma capacitiva. Essa aplicação investiga o mecanismo de deposição de energia no plasma devido a um campo eletrostático senoidal operando a 13,56 MHz. A aplicação demonstra o uso de um formulário de preferências modais para permitir a seleção do formato de saída do relatório gerado.

Captura de tela da aplicação GEC CCP em que diversas entradas podem ser variadas. Captura de tela da aplicação GEC CCP em que diversas entradas podem ser variadas.

Captura de tela da aplicação GEC CCP em que diversas entradas podem ser variadas.